[1]
Balicki, M. 2021. Odpowiedź na artykuł M. Burego pt. Dwa razy mierz, raz tnij – uwagi do propozycji zmian w systemie ochrony wzorów użytkowych postulowanych w poświęconej wzorom użytkowym Monografii. RZECZNIK PATENTOWY. 101-102 : 3-4/2021 (grudz. 2021), 85–96.