Bury, M. (2021). Dwa razy mierz, raz tnij – uwagi do propozycji zmian w systemie ochrony wzorów użytkowych postulowanych w poświęconej wzorom użytkowym Monografii. RZECZNIK PATENTOWY, (99-100 : 1-2/2021), 15–70. Pobrano z https://rzecznikpatentowy.online/index.php/rp/article/view/32