Przejdź do sekcji głównej Przejdź do głównego menu Przejdź do stopki
  • Aktualny numer
  • Archiwum
  • Ogłoszenia
  • O czasopiśmie
    • O czasopiśmie
    • Przesyłanie tekstów
    • Zespół redakcyjny
    • Polityka prywatności
    • Kontakt
Szukaj
  • Zarejestruj
  • Zaloguj
  1. Strona domowa /
  2. Archiwum /
  3. Nr 101-102 : 3-4/2021 (2021): Rzecznik Patentowy

Nr 101-102 : 3-4/2021 (2021): Rzecznik Patentowy

					Pokaż  Nr 101-102 : 3-4/2021 (2021): Rzecznik Patentowy
Opublikowane: 31.12.2021

Pełny numer

  • PDF - Rzecznik_Patentowy_101-102

Teksty z wydań archiwalnych

  • Wskazanie przed Urzędem Patentowym RP danych twórcy projektu wynalazczego – uwagi na tle prawnoporównawczym

    Marcin Ożóg
    7-38
    • PDF
  • Dobrze już było – czyli o tym, jak Urząd Patentowy RP udzielał patentów na wynalazki realizowane komputerowo, zanim jeszcze stało się to (nie)modne

    Jakub Sielewiesiuk
    39-50
    • PDF
  • Kontrowersyjny charakter sloganu a jego zdolność odróżniająca jako znaku towarowego – analiza w świetle wyroku Sądu z dnia 20 stycznia 2021 r. w sprawie T253/20 Oatly AB v. EUIPO

    Karolina Sztobryn, Maria Kurkowska
    51-56
    • PDF
  • Glosa do wyroku Sądu Najwyższego z dnia 28 listopada 2019 r., 57 III CSK 282/17 (dotyczącego warunków ochrony niezarejestrowanego oznaczenia opisowego)

    Wojciech Gierszewski
    57-66
    • PDF
  • Obliczanie biegu terminu przedawnienia roszczeń z tytułu naruszenia prawa ochronnego na znak towarowy o charakterze trwałym (na tle uchwały składu siedmiu sędziów SN z dnia 18 maja 2021 r., III CZP 30/20)

    Krzysztof Czub
    67-70
    • PDF
  • Odpowiedź na artykuł M. Burego pt. Dwa razy mierz, raz tnij – uwagi do propozycji zmian w systemie ochrony wzorów użytkowych postulowanych w poświęconej wzorom użytkowym Monografii

    Marcin Balicki
    85-96
    • PDF

Język / Language

  • Język Polski
  • English
Redakcja Czasopisma "Rzecznik Patentowy"
Polska Izba Rzeczników Patentowych

ul. Żelazna 59 lok. 134 (I piętro)
00-848 Warszawa 
NIP: 526-17-32-118
e-mail: redakcja@rzecznikpatentowy.online
Więcej informacji o systemie publikacji, Platformie i Obiegu OJS/PKP.