Dwa razy mierz, raz tnij – uwagi do propozycji zmian w systemie ochrony wzorów użytkowych postulowanych w poświęconej wzorom użytkowym Monografii
Abstract
Nakładem wydawnictwa Wolter-Kluwers ukazała się pod koniec 2020 r., dofinansowana przez Uniwersytet Jagielloński, interesująca monografia Ochrona wzorów użytkowych1, której autorem jest dr Marcin Balicki. Zreferowane w Monografii zagadnienia zwieńczono wnioskami de lege ferenda. Część z tych wniosków została uzasadniona w sposób umożliwiający polemikę, część poparta jest głównie przekonaniem i autorytetem Autora Monografii. Niniejszy artykuł stanowi częściowo komentarz, a częściowo polemikę z tą pierwszą grupą. (...)
Downloads
Published
2021-12-31
How to Cite
Bury, Marek. “Dwa Razy Mierz, Raz Tnij – Uwagi Do Propozycji Zmian W Systemie Ochrony wzorów użytkowych Postulowanych W poświęconej Wzorom użytkowym Monografii”. RZECZNIK PATENTOWY, no. 99-100 : 1-2/2021, Dec. 2021, pp. 15-70, https://rzecznikpatentowy.online/index.php/rp/article/view/32.
Issue
Section
Teksty z wydań archiwalnych